メタルゲート形成用スパッタリング装置　FC7100

当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用の、φ300 mm対応クラスター式スパッタリング装置です。

製品情報

メタルゲート量産

  • 超高真空Co-スパッタによる膜組成制御
  • 極薄膜の高精度な膜厚制御（0.1 nm単位）、優れた膜厚均一性 (1σ＜1 ％)
  • Under 32 nmダマシン・ゲート形成プロセスにも対応可能(PCM-PVDによる高カバレッジ成膜)
  • 小型カソード採用による低い材料コスト（容易な材料変更）
  • 装置構成：クラスター式
  • 対応基板サイズ：φ300 mm基板

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